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金剛石膜在Si(100)襯底上的選擇沉積
采用自行設(shè)計(jì)的微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),利用銅網(wǎng)作為模板實(shí)現(xiàn)了在Si(100)襯底上金剛石膜的選擇沉積.用場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(SEM)、Raman散射譜對(duì)樣品進(jìn)行了表征與分析.并與同樣生長(zhǎng)條件下未采用模板時(shí)得到的金剛石樣品進(jìn)行了比較.結(jié)果發(fā)現(xiàn),采用模板后,金剛石膜的成核密度和質(zhì)量都得到很大提高.
作 者： 常開(kāi)朋 程文娟 江錦春 張陽(yáng) 朱鶴孫 沈德忠 作者單位： 常開(kāi)朋,程文娟,江錦春,朱鶴孫,沈德忠(清華大學(xué)化學(xué)系,功能晶體與薄膜研究所,北京,100084)張陽(yáng)(清華大學(xué)化學(xué)系,功能晶體與薄膜研究所,北京,100084;清華大學(xué)光子與電子技術(shù)研究中心,北京,100084)
刊 名： 人工晶體學(xué)報(bào) ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS 年，卷(期)： 2003 32(6) 分類號(hào)： O484.1 關(guān)鍵詞： 金剛石膜 Si(100)襯底 微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)【金剛石膜在Si(100)襯底上的選擇沉積】相關(guān)文章：
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