自持金剛石厚膜上沉積生長(zhǎng)ZnO薄膜及發(fā)光特性

時(shí)間：2023-04-26 14:41:27 數(shù)理化學(xué)論文我要投稿

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采用磁控濺射在自持CVD金剛石厚膜的成核面上制備了ZnO薄膜,并實(shí)驗(yàn)研究了其生長(zhǎng)特性和發(fā)光特性隨O2和Ar流量的變化.利用X射線(xiàn)衍射(XRD)、光致發(fā)光(PL)光譜、電子探針(EPMA)和霍爾測(cè)量對(duì)樣品進(jìn)行了檢測(cè).結(jié)果表明,在O2/Ar比值約為1時(shí)沉積得到的ZnO薄膜取向較一致,呈現(xiàn)高阻的狀態(tài)并且發(fā)光性能最好.

作者：孫劍白亦真谷建峰劉明張慶瑜姜辛 SUN Jian BAI Yi-zhen GU Jian-feng LIU Ming ZHANG Qing-yu JIANG Xin 作者單位：孫劍,白亦真,劉明,張慶瑜,SUN Jian,BAI Yi-zhen,LIU Ming,ZHANG Qing-yu(大連理工大學(xué),三束材料改性國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,遼寧,大連,116023;大連理工大學(xué),物理與光電工程學(xué)院,遼寧,大連,116023)

谷建峰,姜辛,GU Jian-feng,JIANG Xin(大連理工大學(xué),三束材料改性國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,遼寧,大連,116023)

刊名：發(fā)光學(xué)報(bào) ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE 年，卷(期)： 2008 29(3) 分類(lèi)號(hào)： O482.31 關(guān)鍵詞：聲表面波濾波器金剛石 ZnO薄膜磁控濺射

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