制備溫度對(duì)TiO2基膜表面非晶態(tài)ZnO薄膜發(fā)光特性影響的研究

制備溫度對(duì)TiO2基膜表面非晶態(tài)ZnO薄膜發(fā)光特性影響的研究

利用電子束熱蒸發(fā)鍍膜的方式,以高純度的ZnO和TiO2顆粒為原料,以Si為基底在有氧的氣氛中制備ZnO/TiO2復(fù)合薄膜.研究制備溫度對(duì)ZnO/TiO2薄膜的結(jié)構(gòu)以及發(fā)光性能的影響.通過拉曼(Raman)譜和X射線衍射(XRD)譜分析了ZnO/TiO2薄膜的結(jié)構(gòu),表明所制備的ZnO薄膜為非晶態(tài).用光致發(fā)光 (PL) 譜表征了它的發(fā)光特性,數(shù)據(jù)表明在250 ℃時(shí)制備的非晶態(tài)ZnO薄膜在波長(zhǎng)389 nm處具有極強(qiáng)的紫外光發(fā)射,在波長(zhǎng)431 nm處發(fā)出很強(qiáng)的紫光,在波長(zhǎng)519 nm處發(fā)出較強(qiáng)的黃綠光.

作 者： 沈華 史林興 王青 何勇 朱日宏 SHEN Hua SHI Lin-xing WANG Qing HE Yong ZHU Ri-hong   作者單位： 沈華,王青,何勇,朱日宏,SHEN Hua,WANG Qing,HE Yong,ZHU Ri-hong(南京理工大學(xué),電子工程與光電技術(shù)學(xué)院,江蘇,南京,210094)

史林興,SHI Lin-xing(南京理工大學(xué),理學(xué)院,江蘇,南京,210094) 

刊 名： 應(yīng)用光學(xué)  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF APPLIED OPTICS  年，卷(期)： 2007 28(4)  分類號(hào)： O462.3 O484.4-34  關(guān)鍵詞： ZnO   TiO2   電子束熱蒸發(fā)   紫外光發(fā)射   非晶態(tài)薄膜  

【制備溫度對(duì)TiO2基膜表面非晶態(tài)ZnO薄膜發(fā)光特性影響的研究】相關(guān)文章：

射頻反應(yīng)濺射制備的ZnO薄膜的結(jié)構(gòu)和發(fā)光特性04-27

TiO2薄膜的溶膠-凝膠法制備及其光學(xué)特性04-26

N 摻雜ZnO薄膜的接觸特性04-26

納米ZnO薄膜制備及液態(tài)源摻雜04-27

自持金剛石厚膜上沉積生長(zhǎng)ZnO薄膜及發(fā)光特性04-26

Ag摻雜對(duì)ZnO薄膜的光電性能影響04-26

RF濺射ZnO薄膜工藝與結(jié)構(gòu)研究04-26

納米硅鑲嵌復(fù)合薄膜退火前后的微結(jié)構(gòu)及發(fā)光特性研究04-26

基片及基片溫度對(duì)Fe4N薄膜的形成及其特性的影響04-27

ZJR型涂料的制備及特性研究04-26