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電化學阻抗譜在電沉積研究中的應(yīng)用(三)
文章的第三部分介紹了電化學阻抗譜在Ni-siC復合鍍、化學鍍鎳和鍍層性能(耐蝕性、電化學行為和腐蝕行為)研究中的應(yīng)用.
作 者: 袁國偉 YUAN Guo-wei 作者單位: 廣州市二輕工業(yè)科學技術(shù)研究所,廣東,廣州,510663 刊 名: 電鍍與涂飾 ISTIC PKU 英文刊名: ELECTROPLATING & FINISHING 年,卷(期): 2008 27(3) 分類號: O646.54 關(guān)鍵詞: 復合鍍 化學鍍 腐蝕電化學 電化學阻抗譜【電化學阻抗譜在電沉積研究中的應(yīng)用(三)】相關(guān)文章:
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