鈦合金表面離子束增強沉積MoS2基膜層及其性能

鈦合金表面離子束增強沉積MoS2基膜層及其性能

將離子束增強沉積（IBED）技術(shù)與離子束濺射沉積技術(shù)相結(jié)合，在鈦合金表面制備了MoS2， MoS2-Ti復(fù)合膜。研究了膜層的形態(tài)、結(jié)構(gòu)、膜基結(jié)合強度、硬度、摩擦學(xué)性能及抗微動（fretting）損傷性能。結(jié)果表明：所獲膜層較純?yōu)R射膜結(jié)合強度高、致密性好，復(fù)合膜中允許的金屬元素含量大。通過恰當(dāng)?shù)乜刂茝?fù)合膜中Ti的含量，可獲得以（002）基面擇優(yōu)取向的MoS2-Ti復(fù)合膜，該膜層有較好的減摩和抗磨綜合性能，能夠顯著地改善鈦合金的常規(guī)磨損、微動磨損（FW）和微動疲勞（FF）性能，特別是在磨損嚴(yán)重的大位移整體滑移條件下， MoS2-Ti復(fù)合膜對鈦合金FF抗力的提高作用可大于噴丸形變強化處理。

作 者： 劉道新 唐賓 陳華 何家文 LIU Dao-xin TANG Bin CHEN Hua HE Jia-wen   作者單位： 劉道新,LIU Dao-xin(西北工業(yè)大學(xué)民航工程學(xué)院,)

唐賓,TANG Bin(太原理工大學(xué)表面工程研究所,)

陳華,何家文,CHEN Hua,HE Jia-wen(西安交通大學(xué)) 

刊 名： 中國有色金屬學(xué)報  ISTIC EI PKU 英文刊名： THE CHINESE JOURNAL OF NONFERROUS METALS  年，卷(期)： 2001 11(3)  分類號： O484  關(guān)鍵詞： 鈦合金   離子束增強沉積   MoS2復(fù)合膜   摩擦磨損   微動疲勞   噴丸強化  

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